第1年
11英寸1100℃三温区管式炉--GSL-110
多路质量流量供气系统
6工位程控提拉涂膜机--PTL-OV6P
三极电池测量装置--3ESTC15
1750°C(19升）高温箱式炉--KSL-175
1200°C高温箱式炉--KSL-1200X-M(27
压力控制手套箱
等离子表面处理仪
- 产地：
- 安徽
- 型号：
- VTC-2RF
VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
技术参数
输入电源 | 220VAC 50/60Hz, 单相 800W (包括真空泵） |
等离子源 | 一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
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磁控溅射头 | 一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接 靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm 一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3） 溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机） 同时可选配1英寸溅射头 |
真空腔体 | 真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作 密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封 一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体 真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵） |
载样台 | 载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热 载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片） 旋转速度：1 - 20 rpm 样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃ 控温精度+/- 10℃
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300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF由合肥科晶材料技术有限公司 为您提供，如您想了解更多关于300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。
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