全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200用于高速溅射

产地：

北京

型号：

GVC-2200

全自动磁控离子溅射仪是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。其在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析

产品特点

液晶显示屏简便操作

自动抽真空做样

自动放气

溅射电流范围大

溅射效率高

颗粒度小

样品表面无温升

适用温度敏感性样品

应用领域

放置手套箱内，用于易污染、易氧化需要保护的样品制备

技术指标

溅射电流：5-45mA

工作方式：全自动磁控

溅射电压：600V

靶材：金、铂（标配、二选一）

真空度：＜1Pa

真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）

产品特性
本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域，液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升，适用温度敏感性样品等特点，可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200用于高速溅射由北京中科科仪股份有限公司 为您提供，如您想了解更多关于全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200用于高速溅射报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。