GVC-1000小型离子溅射仪用于扫描电镜镀覆导电膜

产地：

北京

型号：

GVC-1000

GVC-1000小型离子溅射仪离子溅射镀膜法是一种利用离子溅射形成干涉膜，以增进相间衬度显示组织的方法。而离子溅射镀膜仪则是一种用于扫描电镜非导电样品非常理想的镀膜设备。

产品特点

全自动控制，无需调整针阀

专利结构，靶材更换非常简单

特殊密封结构，玻璃不易损伤

专利结构，样品台高度调整方便

内置操作向导，无需培训即可熟练操作

应用领域

本仪器主要适用于，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等

技术指标

工作方式：磁控溅射

外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)mm

极限真空：＜1Pa

溅射靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等

工作介质：空气或氩气

真空室：高硅硼玻璃φ128×100mm

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