GVC-1000小型离子溅射仪用于微电子领域

产地：

北京

型号：

GVC-1000

作为一种非热涂层技术，应用于微电子领域。各种功能膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如，在低温下沉积氮化硅增透膜以提高太阳能电池的光电转换效率。

产品特点

全自动控制，无需调整针阀

专利结构，靶材更换非常简单

特殊密封结构，玻璃不易损伤

专利结构，样品台高度调整方便

内置操作向导，无需培训即可熟练操作

应用领域

本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等

技术指标

工作方式：磁控溅射

外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)mm

极限真空：＜1Pa

溅射靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等

工作介质：空气或氩气

真空室：高硅硼玻璃φ128×100mm

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