英国QUORUM Q150R新型真空磁控离子溅射镀膜仪

型号：

Q150RS/Q150RE/Q150RES

产地：

英国

Q150R是一款多功能紧凑型机械泵磁控离子真空镀膜系统，对于SEM样品制备及其它镀膜应用非常理想。直径为165mm/6.5”的腔室可容纳多种需要镀导电膜的样品 – 尤其用于在SEM应用中提高成像质量。

Q150R S
机械泵抽真空离子溅射镀膜仪，适于给样品镀制不氧化金属膜（即贵金属膜），如金、银、铂和钯。
Q150R E
机械泵抽真空蒸发镀碳仪，使用碳丝或碳绳为SEM样品镀膜。
Q150R ES
集Q150R S和Q150R E两者的功能于一体，节省空间。这个双重用途、结构紧凑、机械泵抽真空的镀膜系统标配有溅射插入头和碳丝蒸发插入头 – 可提供无与伦比的多用途镀膜。
此外，辉光放电选项也是可用的（仅Q150R S和Q150R ES版本），它可实现样品表面改性（如疏水表面改为亲水表面）。
快速简便：快速、易更换的镀膜插入头，能在同一个紧凑设计中实现金属溅射、碳蒸镀和辉光放电三者之间的快速转换。
采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。与镀膜处理方法及镀膜材料相适配的镀膜参数方案可通过触摸按键实现预设并储存。自动放气控制功能确保了溅射期间zui佳的真空状态，可提供良好的一致性和可重复性。
易使用：智能识别系统可自动探测安装了何种类型的镀膜插入头，以便立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案 – 这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非常理想。多种样品台组件适用于各种尺寸和类型的样品；所有样品台都带有快速、易更换及落入式设计的特点。
功能强大、可重复镀膜及高可靠性：可预编程的镀膜参数及方案能确保一致且可重复的结果。需要沉积厚膜时，本系统提供长达60分钟且无需破真空的溅射时间。设计xian进的碳蒸镀插入头操作简单,具有对蒸发电流参数的完全控制，确保了SEM应用中一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。
适配性强且用途广：溅射、碳蒸镀、辉光放电插入头及多种可选件，使Q150R对于多用户实验室应用非常理想。可溅射一系列不氧化金属，如金、银、铂和钯。碳丝蒸镀插入头处理样品速度非常快。也可选用碳棒蒸发。还可应用于金属薄膜研究及电极的应用。

溅射靶材或碳蒸发源的选用：
金 – 常规SEM应用时使用zui普遍的靶材；溅射速度快且导电效果zui好。
银 – 高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。
铂 – 在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸zui小，且具有优良的二次电子发射能力。
钯 – 用于x射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。
金/钯合金（80:20%） - 通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高zui终分辨率。
碳丝蒸镀 – 碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非常快。
碳棒蒸发 – 用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途