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CMP研磨液中的添加剂混合物的测定 沃特世Arc HPLC⾼效液相⾊谱系统

日期:2024-05-28 21:31:21     浏览:96    下载:0     体积:0.99M    

  【仪器网 行业应用】沃特世采用Arc HPLC⾼效液相⾊谱系统连接光电⼆极管阵列(PDA)和单四极杆质谱检测器(ACQUITY QDa)仅需15分钟即可分析CMP研磨液中的单个添加剂或添加剂混合物

  只需很少的样品制备步骤:添加剂的稀释和进样,CMP研磨液的离⼼、稀释和进样;

  PDA能够轻松检测到低浓度下对紫外线(UV)活性的添加剂,并进⾏定量分析;

  质谱检测器ACQUITY QDa可以针对更复杂的添加剂进⾏定性分析。

  实 验

  样品描述

  市售样品和标准品(购⾃德国默克)的详细信息如表1所示。

  除CMP研磨液外,所有采购的化学品均溶于10 mM甲酸铵中,浓度为1 mg/mL。将CMP研磨液在4 ºC温度下以2,200 rpm离⼼20分钟,并将zui上⾯的4 mL上清液倾倒⼊20 mL闪烁瓶中,⽤10 mM甲酸铵将稀释⾄浓度为6.5 mg/mL。

  在表2列出的不同浓度下,对各单标进⾏连续稀释分别得出校准曲线,然后将其⼀对⼀地组合成CMP添加剂混合物(混合物A),并对混合物A进⾏连续稀释,得出校准曲线。zui后,使⽤Ludox®上清液稀释混合物A,制成混合物B稀释系列,⽤于计算加标到Ludox上清液基质中的添加剂的回收率。实验方法和具体参数请至文末查看原文获取。

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  • 配置
  • 品牌型号
  • 参考报价
  • 液相色谱仪(LC)
  • 500000.00


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