CMP研磨液中的添加剂混合物的测定 沃特世Arc HPLC⾼效液相⾊谱系统

　　【仪器网 行业应用】沃特世采用Arc HPLC⾼效液相⾊谱系统连接光电⼆极管阵列(PDA)和单四极杆质谱检测器（ACQUITY QDa），仅需15分钟即可分析CMP研磨液中的单个添加剂或添加剂混合物。

　　只需很少的样品制备步骤：添加剂的稀释和进样，CMP研磨液的离⼼、稀释和进样；

　　PDA能够轻松检测到低浓度下对紫外线(UV)活性的添加剂，并进⾏定量分析；

　　质谱检测器ACQUITY QDa可以针对更复杂的添加剂进⾏定性分析。

　　实 验

　　样品描述

　　市售样品和标准品（购⾃德国默克）的详细信息如表1所示。

　　除CMP研磨液外，所有采购的化学品均溶于10 mM甲酸铵中，浓度为1 mg/mL。将CMP研磨液在4 ºC温度下以2,200 rpm离⼼20分钟，并将zui上⾯的4 mL上清液倾倒⼊20 mL闪烁瓶中，⽤10 mM甲酸铵将稀释⾄浓度为6.5 mg/mL。

　　在表2列出的不同浓度下，对各单标进⾏连续稀释分别得出校准曲线，然后将其⼀对⼀地组合成CMP添加剂混合物（混合物A），并对混合物A进⾏连续稀释，得出校准曲线。zui后，使⽤Ludox®上清液稀释混合物A，制成混合物B稀释系列，⽤于计算加标到Ludox上清液基质中的添加剂的回收率。实验方法和具体参数请至文末查看原文获取。

　　………………　………………　………………　………………　………………　………………

　　更多详细内容，请点击底部“免费下载全文”查看。