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硅片表面杂质元素含量的测定 LabMS 3000s 电感耦合等离子体质谱仪

日期:2024-03-29 01:37:06     浏览:116    下载:9     体积:1.03M    

  【仪器信息网 行业应用】本实验参考《GB∕T 39145-2020硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》,采用LabMS 3000s ICP-MS测定硅片表面杂质元素含量。LabMS 3000s采用的加强型离子透镜和偏转技术,结合高性能冷等离子技术和新一代碰撞反应池技术,可有效消除干扰,从而获得更低的检测限、背景等效浓度和准确的超痕量分析结果,保证数据质量。

硅片杂质测定

  1.实验

  1.1 仪器设备

       LabMS 3000s 电感耦合等离子体质谱仪,莱伯泰科

  仪器参数,见表1。表1 LabMS 3000s ICP-MS 仪器参数

  1.2 样品制备

  使用真空吸笔吸取硅片背面,使用移液枪将1ml提取液滴加在硅片正面;手动倾斜硅片,使提取液扫描整片硅片2次;用移液枪将扫描液转移至PFA样品瓶待测。1.3 定量结果对于检出限(DL)、背景等效浓度(BEC)和加标回收率测定结果,建立 0、25、50、100 ppt标准溶液的标准曲线,所有曲线的线性>0.999,证明了分析方法的线性以及能够在低浓度下准确测定。表2显示了16种元素的检出限(DL)、背景等效浓度(BEC),样品测试结果以及50ppt加标回收率结果。需要注意的是,DL 和 BEC 值不仅反映了仪器的性能,还反映了提取液的污染水平。

  对于方法学有效性而言,长期稳定性与 DL 和 BEC 同等重要。通过在15h内每隔20分钟测试QC溶液(硅片提取液加标50ppt)一次,来评估 LabMS 3000s ICP-MS的长期稳定性。图1显示了15h内LabMS 3000s ICP-MS的长期稳定性,所有元素的回收率在80%-120%范围内。

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