产品名称： | Si+SiO2薄膜 |
产品简介： | |
技术参数： | 常规晶向：<100>, <111>,掺杂类型：N型掺杂 或者 P型掺杂制作方法：干法或湿法薄膜厚度：常规厚度300nmSiO2
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常规尺寸： | dia4"x0.5mm；dia2"x0.5mm；单面氧化 或者 双面氧化 可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um |
标准包装： | 1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装 |
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