- 产地:
- 安徽
- 型号:
- G-a-N
产品名称: | 氮化镓(GaN)晶体基片 |
产品简介: | GaN易与AlN、InN等构成混晶,能制成各种异质结构,已经得到了低温下迁移率达到105cm2/Vs的2-DEG(因为2-DEG面密度较高,有效地屏蔽了光学声子散射、电离杂质散射和压电散射等因素).科晶公司将为您提供高品质低价位的氮化镓晶体和基片。 |
技术参数: | 制作方法:HVPE(氢化物气象外延法)传导类型:N型;半绝缘型电阻率:R<0.5 Ω.cm;R>106Ω.cm表面粗糙度:<0.5nm位错密度:<5x106Ω.cm可用表面积:>90%TTV:≤15umBow:≤20um
|
产品规格: | 晶体方向: <0001>;常规尺寸:dia50.8mm±1mm x 0.35mm ±25um; 注:可按照客户要求加工尺寸及方向。 |
氮化镓(GaN)晶体基片由合肥科晶材料技术有限公司 为您提供,如您想了解更多关于氮化镓(GaN)晶体基片报价、参数等信息 ,欢迎来电或留言咨询。

















第1年



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