- 型号:
- MC1000
- 产地:
- 日本
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm
特点:
采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件
规格:
注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

















第1年
通过仪器仪表网认证 



日立高新磁控溅射器MC1000
多变量分析软件3D SpectAlyze
日立白光干涉显微镜VS1800
高性能聚焦离子束系统 MI4050
日立120kV透射电镜HT7800
高性能FIB-SEM系统 Ethos NX5000
场发射扫描电子显微镜Regulus8200
日立200kV球差校正透射电镜HF5000
日立高新热场式场发射扫描电镜SU500
日立高新NX9000高精度实时三维分析

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