第1年
真空机组
600mlPTFE球磨罐（外部有液氮冷却层
小型流延自动涂膜烘干机--MSK-AFA-
带有预热系统的滑动PECVD
1500℃三温区开启式管式炉--OTF-150
晶体生长炉
上下可调制制膜器
双面研磨抛光机--UNIPOL-160D
蓝宝石专用掏棒机
- 产地：
- 安徽
- 型号：
- OTF-1200X-4-NW
OTF-1200X-4-NW-UL是一款用于CVD实验的小型管式炉，常用生长纳米线和各种薄膜。设备左端设计有一反应前驱体预热区，并在预热炉体上安装有各种接口。可导入气体、液体和放入固体反应物。主反应炉体中有一3英寸的样品台，用于盛放基片，样品台与右端滑轨法兰连接，以便于实验操作。
技术参数
炉体和预热腔体
| 主反应炉体炉管尺寸：100mmO.Dx94mmI.Dx750mmL（石英管） 最高工作温度为1100℃ 一个小型预热炉体，安装在设备左端，用于反应前驱体预热 预热腔体为30mmOD×150mmL的不锈钢管 右端安装有一滑轨法兰，以便于放样和取样 在预热炉体和主反应炉体之间有一水冷法兰 左端法兰上有4个气体接口（1/8英寸）（点击图片查看详细资料）
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电源 | 单相, 220V AC, 50/60 Hz |
最大功率 | 3.6KW（需要20A的空气开关） |
加热区 | 主反应炉：440mm 恒温区：100mm 预热炉体：150mm |
工作温度 | 主反应炉体： 最高工作温度：1100℃（<2hrs) 连续工作温度：1000℃ 最大加热速率：20℃/min 预热区： 连续工作温度: RT~600℃ 最大加热速率: 20℃/mi |
温控系统 | 主反应炉体和预热炉分别由两个独立的温控系统控制 采用PID方式来调节温度，可设置30段升降温程序 采用K型热电偶 控温精度：+/- 1℃ 可选购控温软件，可通过电脑来设置和显示温度程序
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密封法兰 | 主反应炉体 右端法兰： 水冷却法兰，通过冷却循环水对密封圈进行水冷（可在本公司购买循环水冷机） 法兰上有KF25接口，可通过波纹管与真空泵相连接 炉体内的样品台与法兰相连接，并且右端法兰为滑轨法兰，以便于放样和取样 法兰上安装有一数显防腐真空计（如下图） 左端法兰（主反应炉体和预热炉体之间） 2个1/8英寸的接口安装在法兰上，可通过这两个接头独立将任何气体导入到主反应炉体中 1个1/8英寸的气体管道，将其气体通过预热腔体然后到主反应腔体中 |
重量 | 110kg |
仪器尺寸 | 右端法兰关闭时的尺寸：1580mm×458mm×585mm（62"L X 18"W X 23"H） 右端法兰打开时的最大尺寸：2040mm×458mm×585mm（80"L X 18"W X 23"H）
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