- 产地:
- 安徽
- 型号:
- PCE-22
PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机,其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片,为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶,改善表面润湿性,清洗SEM &TEM,紫外对聚合物改性等。
紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。
技术参数
电源 | AC 208~240V,单相 50/60Hz |
紫外灯 | 可发出双波长的水银灯 功率:55W 发出光的波长:254 nm 和 185 nm 使用寿命:2500 小时(可在本公司购买紫外灯来更换) 照射区域:200 x 200 mm |
腔体&样品台 | 不锈钢壳体 抽屉式样品台,以便放样取样 样品台面积310 mm x 320 mm 臭氧通风装置安装在腔体上 样品台与紫外灯的距离:20mm -40mm(可调) 样品台可以加热,最高温度可达150℃ 可设置20段升降温程序,控温精度为+/-1℃ 设备运行时间:0.01 秒- 99.9小时 |
排气口 | 直径为80mm的排气口安装在仪器后端 请将橡胶管与排气口连接,将臭氧排出到实验室外 仪器中不包含橡胶管 |
外形尺寸 | 510mm x 350mm x 400mm (W x H x D) |
净重 | 28kg |
质保期 | 一年质保期,终生维护(不包含紫外灯) |
应用 | 去除分子级别的污染物 紫外光固化粘合剂 紫外光催化 氧化PDMS 表面消毒 刻蚀 清洗MEMS 器件 清洗各种基片,如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片 |
加热型紫外臭氧清洗机由合肥科晶材料技术有限公司 为您提供,如您想了解更多关于加热型紫外臭氧清洗机报价、参数等信息 ,欢迎来电或留言咨询。

















第1年



YBCO超导薄膜+Au
A-Z金属蒸发材料
钴(Co)箔
1700℃管式炉--GSL-1700X
金相研磨抛光机--Unipol-830
BaTiO3晶体基片
三氧化二铝(Al2O3)晶体基片
SP1-12012自吸附胶盒
Ni基底石墨烯
二维材料--黑磷


鲁公网安备37021402001368号