第1年
不锈钢箔片
真空机组
硅锗(Si-Ge)晶体基片
双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD
硅(Si)晶体基片
215升真空干燥箱
SP1-5510自吸附胶盒
氟化钙(CaF2)晶体基片
STX-1202 全自动金刚石线切割机
3.4升1900℃高温箱式炉
- 产地：
- 安徽
- 型号：
- PCE-22
PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。
紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。
技术参数
电源 | AC 208~240V，单相 50/60Hz |
紫外灯 | 可发出双波长的水银灯 功率：55W 发出光的波长：254 nm 和 185 nm 使用寿命：2500 小时（可在本公司购买紫外灯来更换） 照射区域：200 x 200 mm |
腔体&样品台 | 不锈钢壳体 抽屉式样品台，以便放样取样 样品台面积310 mm x 320 mm 臭氧通风装置安装在腔体上 样品台与紫外灯的距离：20mm -40mm（可调） 样品台可以加热，最高温度可达150℃ 可设置20段升降温程序，控温精度为+/-1℃ 设备运行时间：0.01 秒- 99.9小时 |
排气口 | 直径为80mm的排气口安装在仪器后端 请将橡胶管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外 仪器中不包含橡胶管 |
外形尺寸 | 510mm x 350mm x 400mm (W x H x D) |
净重 | 28kg |
质保期 | 一年质保期，终生维护（不包含紫外灯） |
应用 | 去除分子级别的污染物 紫外光固化粘合剂 紫外光催化 氧化PDMS 表面消毒 刻蚀 清洗MEMS 器件 清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片 |
加热型紫外臭氧清洗机由合肥科晶材料技术有限公司 为您提供，如您想了解更多关于加热型紫外臭氧清洗机报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。
鲁公网安备37021402001368号