单靶磁控溅射镀膜仪

整机功率：

6KW

极限真空度：

5x10-4Pa

整机尺寸：

1090mm X 900mm X 1250mm

单靶磁控镀膜仪 

单靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的实验室专用镀膜仪，设备可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能全面。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。

 技术参数：