- 型号:
- P-200S Pro ALD
- 产地:
- 芬兰
芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
技术参数
衬底尺寸和类型:
  。50 – 200 mm /单片
  。156 mm x 156 mm 太阳能硅片
  。150 mm x 150 mm 显示面板
 
工艺温度: 50 - 500 °C , 可选更高温度
基片传送选件 :
  。气动升降(手动装载)
  。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现
  。25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系统实现
 
标准: SEMI S2 认证(认证中)
 
前驱体:
  。 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体(最多4路气体):
  。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
  。6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)
 
重量 :790 kg
 
尺寸 :(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
 
可选件 :集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准 :。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,
        。其他工艺可具体协商:其他工艺、应用具体验收标准如:
         - 不均匀性
         - 颗粒物含量
         - 重金属污染
         - 电学性能
一个PICOPLATFORM™ 200真空集群系统由两台PICOSUN™ P-200S ALD设备组成,带等离子体源PICOPLASMA™。
注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途
售后服务承诺
免费上门安装:是
保修期:1年
是否可延长保修期:否
保内维修承诺:经确认质量问题,免费更换。
报修承诺:24小时内到达现场并开始维修
免费仪器保养:6个月一次。
免费培训:免费安装及技术培训
现场技术咨询:无

 





















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 鲁公网安备37021402001368号
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