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台式原子层沉积系统

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品牌名称
ARRADIANCE
厂家区域
辽宁朝阳市
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产品详情
型号:
GEMStar
产地:
美国

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台式三维原子层沉积系统ALD


原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的纳米技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。 

美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可zui多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计, 使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500:1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。

GEMStar XT 产品特点:

■  300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制

■  175℃ 温控150ml前驱体瓶,200℃ 控输运支管

■  可容纳多片4,6,8英寸样品同时沉积

■  可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体

■  标准CF-40接口

■  可安装原位测量或粉末沉积模块等选件

■  等离子体辅助ALD插件

■  多种配件可供选择

GEMStar XT 产品型号:

GEMStar -4 XT:

■  zui大4英寸/100 mm基片沉积

■  单路前驱体输运支管, 4路前驱体瓶接口

■  不可升级为等离子体增强ALD

GEMStar -6/8 XT:

■  zui大6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉积

■  双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口

■  可升级为等离子体增强ALD

GEMStar -8 XT-P

■  zui大8英寸/200mm基片沉积

■  双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口

■  装备高性能ICP等离子发生器

13.56 MHz 的等离子源非常紧凑,只需风冷,zui高运行功率达300W。

■  标配3组气流质量控制计(MFC)控制的等离子气源线,和一条MFC控制的运载气体线,使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。

GEMStar NanoCUBE:


*  zui大100 mm 立方体样品 沉积

*  单路前驱体输运支管, 2路前驱体瓶接口

*  主要用于3D多孔材料,以及厚样品的沉积


丰富配件:


多样品托盘:

* 多样品夹具,样品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。

* 多基片夹具,zui多同时容纳9片基片。


 


温控热托盘:

* 可加热样品托盘,zui高温度500℃,可实现热盘-热壁复合加热方式。


粉末沉积盘:

 



臭氧发生器:

 真空进样器(Load Lock)

 



 晶振测厚仪

 

 前驱体瓶:

 


 前驱体加热套: 

 

粉末旋转沉积罐模块:

配合热壁加热方式,进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。

 


 

手套箱接口:

可从侧面或背面完美接入手套箱,与从底部接入手套箱不同,不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面,反应过程中不对手套箱有加热效应,不影响手套箱内温度。 



应用案例

 

应用领域


 

国内外用户



已发表文献

1、  Loïc Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b

2、  Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003

3、 HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019

4、  Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239

5、 Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on metal−Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957−10962. DOI: 10.1021/jp502669f

6、  Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.

7、  Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f

8、 Pengcheng  Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified  with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 –6. DOI: 10.1002/anie.201303813

9、 Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 10121–10128. DOI: 10.1021/nn404326f

10、  Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388–391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023

11、  Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168

12、   Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.

注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

售后服务承诺

免费上门安装:是

保修期:1年

是否可延长保修期:是

保内维修承诺:免费维修或更换零件;本地储备货值超过50万美元的备件,迅速响应故障诊断和维修。

报修承诺:QD中国承担中国区本地售后服务工作,专业、迅速解决用户在仪器使用过程中的问题。

免费仪器保养:QD中国工程师会依据使用情况定期回访用户、给予维护建议,保障设备良好运转。

免费培训:初次安装培训

现场技术咨询:有

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