帕克 NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统 热点快速调查

产地：

韩国

型号：

Park NX-Hybrid WLI

WLI应用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度

先进的化学机械抛光计量和监测

先进封装

全掩模的热点和缺陷检测

晶圆级计量

AFM应用需要更大的区域和更高的吞吐量

In-line 晶圆计量

长行程CMP轮廓表征

亚埃级表面粗糙度控制

晶圆检验与分析

 

NX-Hybrid WLI 功能Park WLI系统

Park WLI支持WLI和PSI模式（PSI模式由电动过滤器变换器 支持）

可用物镜放大倍数：2.5X 、10X、20X、50X、100X

两个物镜可由电动线性换镜器自动更换

WLI光学干涉测量

扫描 Mirau 物镜高度时，由干涉引起的光强变化可以计算每个像素处的样品表面高度

白光干涉测量 (WLI) 和相移干涉测量 (PSI) 是两种常用的表面表征技术

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NX-Hybrid WLI 应用热点检测和审查热点快速调查和热点缺陷自动审查

可以通过比较参考和目标样品区域的图像来检测图案结构的热点

WLI 的高速“热点检测”可以快速定位缺陷位置，以进行高分辨率 AFM 审查

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途

Park NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统 - 产品推荐

品牌：Park原子力显微镜

Park NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统

全自动工业 WLI-AFM 系统

Park NX Hybrid WLI是有史以来第一款具有内置WLI轮廓仪的AFM，用于半导体和相关制造质量保证。例如半导体前端、后端到高级封装的过程控制，以及研发计量。它适用于那些需要在大面积上进行高吞吐量测量的设备，这些设备可以缩小到具有亚纳米分辨率和超高精度的纳米级区域。

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半导体计量的两种最佳互补技术。

WLI: 白光干涉测量是一种光学技术，它可以对非常宽的区域进行成像，速度非常快，满足高吞吐量测量。

AFM: 原子力显微镜是一种扫描探针技术，即使对透明材料也能提供最精确的纳米级分辨率测量。

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