帕克 NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统 用于半导体元件的研发计量

产地：

韩国

型号：

Park NX-Hybrid WLI

产品介绍

Park NX-Hybrid WLI

AFM 和 WLI 技术集成系统

用于 200mm至 300mm 晶圆的全自动工业化 AFM-WLI 系统是业内最快捷、最准确、最通用的半导体计量工具。

Park NX-Hybrid WLI 是迄今为止首个内置白光干涉仪轮廓测量的 AFM 系统，可用于半导体元件的研发计量、过程控制和制造质量保证。

Park NX-Hybrid WLI 使用 WLI 模块在相当大的区域提供高吞吐量成像，并使用 AFM 在感兴趣的区域提供亚埃高度分辨率的纳米尺度计量。

Park NX-Hybrid WLI 提供了从大面积扫描到纳米级计量的终极解决方案，适用于各种应用，包括质量保证、自动缺陷检测、前端半导体工艺控制和后端先进封装。

Park NX-Hybrid WLI 无缝集成了自动化工业 AFM 系统和 WLI 轮廓仪。与前两种单独的工具解决方案相比，它能有效地节约成本、减少设备占用空间并能提供全新的最佳计量解决方案。

Park NX-Hybrid WLI可测量亚埃级精度的台阶高度

WLI 和 AFM

半导体计量的两种最佳互补技术

WLI

白光干涉测量是一种光学技术，具有成像区域广、速度快、吞吐量高的优点。

AFM

原子力显微镜是一种扫描探针技术，对所有样品材料（包括透明材料）都能提供最精确的纳米级分辨率测量。

技术参数：

WLI 规格

模式

WLI, PSI

最大扫描范围

WLI: 28 μm

PSI: 100 nm (0~5 μm)

垂直分辨率

0.1 nm

电动线性镜头更换器

2 lens

物镜放大的各种WLI规格

视野 (FOV)

2.5 x

4500 μm x 3754 μm

10 x

1125 μm x 938 μm

20 x

562 μm x 469 μm

50 x

225 μm x 187 μm

100 x

112 μm x 93 μm

AFM 规格

XY Scanner

100 μm × 100 μm

Z 扫描仪范围

15 μm

系统规格

300 mm 电动XY 平台

行程可达 400 mm × 300 mm,

0.5 μm 编码器

电动 Z 平台

25 mm Z 行程距离

电动聚焦平台

8 mm Z 行程距离

同轴光学

可装载样品厚度

厚至20 mm

尺寸 & 重量

300 mm 全系统

3836 mm (w) x 1450 mm (d) x 2160 mm (h)

w/ EFEM, 大约 2950 kg(包括控制柜)

天花板高度: 3000 mm 或以上

操作员工作空间: 5150 mm (w) x 3850 mm (d)

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