- 产地:
- 美国
- 型号:
- AL2O3+Ga2O3-ß薄膜
产品名称: | AL2O3+Ga2O3-?薄膜(Ga2O3-??EPI?Film?(?400nm)?on?Sapphire) |
技术参数: | 生长方法:Spin coating + Annealing Ga2O3-?参数:textured along (201); 膜厚~ 400 nmAl2O3 薄膜参数:<0001> 10x10x0.5mm 单抛
|
产品尺寸: | 10x10x0.5mm |
标准包装: | 1000级超净室100级超净袋真空包装 |
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第1年



4英寸真空立式淬火炉
镓酸锶镧SrLaGaO4晶体基片
钴(Co)箔
单片晶圆盒
上下可调制制膜器
钽(Ta)片
Bi2Se2Te晶体
CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-120
1100℃大箱式炉-KSL-1100X-L
小型双炉体滑动管式炉TCVD--OTF-120

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