- 产地:
- 美国
- 型号:
- AL2O3+Ga2O3-ß薄膜
产品名称: | AL2O3+Ga2O3-?薄膜(Ga2O3-??EPI?Film?(?400nm)?on?Sapphire) |
技术参数: | 生长方法:Spin coating + Annealing Ga2O3-?参数:textured along (201); 膜厚~ 400 nmAl2O3 薄膜参数:<0001> 10x10x0.5mm 单抛
|
产品尺寸: | 10x10x0.5mm |
标准包装: | 1000级超净室100级超净袋真空包装 |
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第1年



CVD系统
1"单片盒
锑化铟(InSb)晶体基片
进口Fe3O4
GGG上镀YIG外延薄膜
镓酸钕(NdGaO3)晶体基片
InSb(国外进口)
砷化铟(InAs)晶体基片
小型纽扣电池切片机
36升1600℃箱式炉

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