大塚电子椭偏仪FE-5000

型号：

FE-5000

产地：

日本

FE-5000椭圆偏振光测量仪

纳米级的薄膜膜厚测量

·非接触非破坏实现多层膜的解析

材料表面光学常数（折光率、消光系数）测量

·可求得膜厚以及光学定数的波长分散

（膜厚，折射率，消光系数，tanΨ、cosΔ）

·提供膜厚管理膜质管理有用的信息

通过400ch以上的多通道光谱法，迅速测量椭圆光谱

·可实现一分钟以内的高速测量

·光谱点多，所以坡度大的椭圆光谱也可正确测量

利用多波长光谱仪实现高精度高感度测量

测量反射角度可变，对应薄膜的高精度解析

可对应特制解析的材料物性和多层膜的高度评价

·利用多层膜fitting解析的光学常数测量实现了膜厚膜质管理

·利用有效媒质近似（EMA）可测量复素折射率的波长分散，混合结晶的混合比，界面的厚度等。

·利用各种光学常数函数和膜model解析，可对应薄膜界面等材料物性评价

·通过光学常数数据基础化和菜单登陆功能，改善了操作性

应用范围：

·FPD（LCD,PDP,FED,有机EL）

·半导体（a-Si,poly-Si等）

·复合半导体（半导体激光，强电介质）

·数据储存（DVD,HDD,磁气头)

·光学材料（膜，防反射膜）

·膜（AR膜）

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途