TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅

型号：

RISUN

产地：

美国

TEM氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗口特点

低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有zui大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用

 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性

 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；

均匀性：减少了不同区域的不均匀性；

TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度zui大可达75°

多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm

可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。

薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本

可应用于高温试验环境： >1000° C

可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析

容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；

良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像

超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装

框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架

  标准框架直径为3mm

  同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性

 

 

氮化硅薄膜窗口规格

单窗口系列

窗口类型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
单窗口	20nm	500x500μm	Φ3mm	100μm
	20/50nm	500x500μm	Φ3mm	200μm
	50nm	1000x1000μm	Φ3mm	200μm
	50nm	100x100μm	Φ3mm	200μm

 

单窗口纯硅	15nm	0.25x0.25mm	Φ3mm	200μm
	50nm	0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm	Φ3mm	200μm
	200nm	0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm	Φ3mm	200μm
	15/50/200nm	0.25x0.25mm	Φ3mm	50μm

 

 

长方形窗口

50nm /200nm

0.5x1.5mm

Φ3mm

50μm

 

 

 

多窗口系列

窗口类型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	50nm	2x1阵列，100x1500μm	Φ3mm	200μm

两窗口	15nm /50nm /200nm	2x1阵列，100x1500μm	Φ3mm	200μm
	50nm	2x1阵列，100x1500μm	Φ3mm	50μm

 

	10nm /20nm	3x3阵列，8个窗口100x100μm， 1个窗口100x350μm	Φ3mm	100μm
	10nm	3x3阵列，8个窗口250x250μm， 1个窗口250x500μm	Φ3mm	100μm
	20nm	3x3阵列，8个窗口100x100μm， 1个窗口100x350μm	Φ3mm	200μm
	50nm	3x3阵列，8个窗口100x100μm， 1个窗口100x350μm	Φ3mm	100μm
九窗口	15nm /50nm /200nm	3x3阵列，窗口100x100μm，	Φ3mm	200μm
	50nm	3x3阵列，窗口100x100μm，	Φ3mm	50μm
	8nm	单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；	Φ3mm	200μm

 

 

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途