赛默飞Element GD Plus™ GD-MS 微电子：铜、氧化铝粉、溅射靶材

产地：

美国

型号：

IQLAAEGAAMFABWMAFA

使用赛默飞世尔科技™元件 GD Plus™ GD-MS 重新定义直接在固态下分析先进高纯度材料。对于高通量和超低ppb级检测限，Element GD Plus GD-MS是常规和研究应用中散装金属分析和深度剖析的最方便、最强大的工具。

Element GD Plus GD-MS能够以相同的灵敏度和数据质量分析元素周期表中几乎所有的导电和非导电材料元素。通过专用的样品制备和分析工作流程，可以轻松分析低熔点金属（如镓）。这使得GD-MS成为任何金属分析的可靠标准。

固体样品中存在的几乎所有元素都可以常规检测和定量：许多元素可低至十亿分之一（ppb）水平。

高生产率和低分析
成本Element GD Plus GD-MS旨在以高样品通量提供出色的灵敏度和准确度，从而大大降低分析成本。

快速流动离子源

用户友好的源设计：< 1 分钟样品更换

泵送时间短：< 10 分钟样品周转时间

高样品通量：高达 5 个样品/小时

更少的样品制备：无需对高纯度样品进行酸清洗

更快的样品分析：无需测量校准标准品

日常操作
Element GD Plus GD-MS以常规操作和高通量为核心设计。

线性动态范围超过 12 个数量级，可同时分析基质元素 （%）、痕量 （ppm） 和超痕量 （ppb）

不同检测模式之间的自动交叉校准确保可靠的结果

样品真空室：消除样品和GD池之间的泄漏风险

无需校准标准品即可在单次扫描中快速测定元素浓度（使用标准RSF方法）

在较短的分析时间内实现最佳精度

出色的检测
限Element GD Plus GD-MS可提供高通量，不折不扣。Element GD Plus GD-MS具有最高的信噪比和最低的检测限，是超高纯度元素分析的主力。

独特的离子源专为高离子传输而设计，可最大化分析的信号。

保证信噪比产生亚ppb级检测限值

可选的 CNO 选件可实现 CNO 的亚 ppm 级检测限值，而不会影响分析的通过量

与静态GD源相比，多原子干扰减少10倍

通过高质量分辨率
信任结果高分辨率ICP-MS简单，可实现最先进的性能，而不会影响简单可靠的方法开发。

无干扰测量，获得无可争议的分析结果

可以在单个分析中执行分辨率设置的任意组合

固定狭缝设计保证了最大的稳定性和可重复性

由于滤光透镜，高基质信号对相邻分析物峰的贡献最小

纳米分辨率
的深度剖析深度剖析是涂层元素分析和跨层元素扩散评估的重要工具。

深度分辨率从纳米到数百微米

测定从亚ppm到100%的所有元素的浓度，无需校准

灵活的阳极直径，用于高级深度剖析

可以调整溅射速率以进行批量分析或深度剖析

推荐用于：

航空航天：镍高温合金、复合材料、涂层和扩散层的深度剖析

微电子：铜、氧化铝粉、溅射靶材

可再生能源：硅块、硅片、太阳能电池

医疗/制药/食品：不锈钢、合金

赛默飞Element GD Plus™ GD-MS 微电子：铜、氧化铝粉、溅射靶材由赛默飞色谱与质谱分析 为您提供，如您想了解更多关于赛默飞Element GD Plus™ GD-MS 微电子：铜、氧化铝粉、溅射靶材报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。