第1年
程控提拉涂膜机--PTL-MM02
3.4升1400℃箱式炉(15x15x15cm) --K
1100℃多工位真空气氛管式炉
高温真空气氛管式炉
Si 无衍射基板（打圆孔）
小型1400℃真空气氛管式炉
1750°C(3.4升）高温箱式炉--KSL-17
LiCoO2靶材
滑动式双温区PECVD系统--OTF-1200X-
- 产地：
- 美国
- 型号：
- 康宁7980上镀Si3N4
产品名称： | 康宁7980上镀Si3N4（Silicon Nitride Film (LPCVD) on Corning 7980）
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产品简介： | The Si3N4 film may have stressed induced micro-cracking resulted from the large difference of thermal expansion coefficient between Si3N4 and SiO2 fused silica
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技术参数： | Si3N4薄膜：镀膜方法：low stress LPCVD method低压力化学气相沉积法膜层厚度：1.3um +/- 5%镀膜情况：双面镀膜UV级石英 UV Grade Fused Silica (Corning 0F 7980 HPFS)：常规尺寸:dia100.0 (±0.20) mm x 0.5 (± 0.10) mm边缘：CNC Ground表面质量：60/40 失效区域： 2.0 mm borderTTV:< 20 microns抛光情况：双面抛光(60/40)
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产品规格： | dia100x0.5mm；10x5x0.5mm；10x10x0.5mm |
标准包装： | 1000级超净室100级超净袋或单片盒包装 |
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