国仪量子 国产液晶面板分析专用场发射扫描电镜 SEM5000

产地：

安徽

型号：

SEM5000Pro 液晶面板

SEM5000Pro是一款分辨率高、功能丰富的场发射扫描电子显微镜。

先进的镜筒设计，高压隧道技术（SuperTunnel）、低像差无漏磁物镜设计，实现了低电压高分辨率成像，同时磁性样品可适用。光学导航、完善的自动功能、精心设计的人机交互，优化的操作和使用流程，无论经验是否丰富，都可以快速上手，完成高分辨率拍摄任务。

液晶显示器( LCD)是目前广泛使用的平板显示器(FPD)之一，具有功耗低、外形薄、重量轻等特征。随着LCD技术的发展，台式液晶显示器、笔记本液晶显示器、手持显示器和大尺寸液晶电视已经越来越普及。从中国大陆TFT-LCD主要应用产品的需求状况来看，2008年中国大陆面板需求除受金融风暴影响导致成长率稍稍下滑外，未来几年预计年成长率都将达15%以上，由于国家家电下乡政策的出台，对于LCD取代CRT成为新一代主流显示技术更是起到了推波助澜的作用。

TFT-LCD制造过程中，主要的工艺过程分为三部分：ARRAY（阵列）工程、CELL（成盒）工程和MOUDLE（模组）工程。前者采用半导体工艺生产技术，且技术已经相当成熟，所以目前在日韩和中国台湾此部分的制造合格率一般都能达到95%甚至更高，而国内自从2003年以来相继投产的上广电、京东方和龙腾光电在这一方面稍微落后一点，如何进一步降低产品不良率，提高产品品质，成为国内液晶面板制造行业的努力方向。

液晶显示器的器件构造

液晶成盒基板是由TFT基板与彩膜(CF)基板贴合在一起，并在中间填充液晶构成的。其中阵列基板和彩膜基板之间要求控制间隔为数微米，而且具有均一的间隔，并由均一的垫料( spacer)来达到这一效果。在阵列基板侧为驱动像素设计了gate线及数据线的引出电极。彩膜基板是由多个重复的RGB（红、绿、蓝）三原色构成的图形，图形形成的位置是与阵列基板上的各像素完全对应的。利用与业已成熟的LCD技术形成一个液晶盒相结合，再经过后工序如偏光片的贴覆等过程，最后形成液晶显示屏，如图2所示。

TFT基板生产工艺

图3所示为TFT基板的生产工艺流程，玻璃素板经过反复4—5次的成膜一曝光显影一蚀刻一检查等工序，形成等效于薄膜晶闸管的TFT基板。TFT基板上薄膜分成两种：金属膜和非金属膜。非金属膜由化学气相沉积法( CVD)生成，金属膜主要由溅射法( Sputter)生成。对应薄膜的生成，蚀刻则是把不需要的薄膜部分去除掉，金属膜蚀刻大多采用湿式蚀刻(wet etching)，非金属膜大多采用干式蚀刻( dry etching)。本文主要对干式蚀刻进行分析。

针对蚀刻后图形观察实验

干式蚀刻中、蚀刻后薄膜断面示意图，前两幅为不良品。第一种为本层薄膜（灰色部分）倒角为直角( =900)，本层薄膜脆弱易断；第二种本层角度为钝角(> 900)，下一层（黑色部分）薄膜容易折断：第三种为稳定的结构，各层薄膜都相当稳定。

生产中发现G-SiNx和PA-SiNx在界面处会引起倒角（上述的第二种情况）发生，设计几个观察项目：

(1)2个Sample均采用三层CVD膜+PA-SiNx膜，区别是有无采用PR-DE;

(2)有无CH-DE Ashing和D工程；

(2 )l/PR DE中的不同水准的过蚀刻时间的实验，三层CVD为Unisas成膜，PA膜为AKT 2S方式成膜。实验过程为：三层CVD-I/PR DE-PA-CPR-CDE;

(4)CH-DE中选取不同的参数。

本文选第四项目为例进行分析，在1300mm×11OOmm的基板上选取四个点制成样本。

三层CVD为Unisas成膜，PA膜为AKT 2S方式成膜。实验过程为：三层CVD-I/PRDE-CHDE-PA-CPR-CDE。

CH-DE时仅有BT工序的G端子SEM图片，如图6～9所示（注：沟刻中无Ashing）。

CH-DE时仅有ME工序的G端子SEM图片，如图10～13所示（注：沟刻中无Ashing）。

CH-DE时有BT+ME工序的G端子SEM图片，如图14～17所示（注：沟刻中无Ashing）。

由以上扫描电镜图像可以得出，CH-DE中各工程因素对倒Tape角没有影响。

同样的，其它三组设计得到的结论为：

(1)两种蚀刻以后，两层保护膜的界面处均无倒角，即初步判定PR-DE对于两层间倒角无影响：

(2)CH-DE工程中的Ashing及D工程过程中的一些因素对倒Tape角的影响程度较轻微；倒Tape角的存在和界面层的紧密程度有一定依存性；

(3)I/PR DE中不同的过蚀刻对于倒Tape角没有影响。

初步判定倒Tape角的存在和界面层的紧密程度有一定依存性，即与制程中所使用的材料材质有一定的关系。

电子枪类型：高亮度肖特基场发射电子枪

分辨率：0.8 nm @ 15 kV；1.2 nm @ 1 kV

放大倍率：1 ~ 2,500,000 x

加速电压：20 V ~ 30 k

样品台：五轴全自动样品台

产品特点：

01 分辨率高，低加速电压下实现高分辨成像

02 电磁复合物镜，减小像差，显著提高低电压下的分辨率，而且可观察磁性样品

03 高压隧道技术(SuperTunnel) ，在隧道中的电子能保持高能量，减少了空间电荷效应，低电压分辨率得到保证

04 电子光路无交叉，有效的降低系统像差，提升分辨能力

05 水冷恒温物镜，保证物镜工作的稳定性、可靠性和可重复性

06 磁偏转六孔可调光阑，自动切换光阑孔，无需机械调节，实现高分辨率观察或大束流分析模式快速切换

产品参数

国仪量子 国产液晶面板分析专用场发射扫描电镜 SEM5000由国仪量子技术（合肥）股份有限公司 为您提供，如您想了解更多关于国仪量子 国产液晶面板分析专用场发射扫描电镜 SEM5000报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。