自动压力跟踪绝热量热仪（LowPhi ARC）

型号：

PHiTEC II ARC

产地：

英国

     英国危险评估实验室HEL在陶氏化学di一代ARC的基础上，根据自己长期从事安全评估工作的应用实践，开发出了更专业的第二代 ARC绝热量热仪PHiTEC I，以及第三代低PHi值 (φ)绝热量热仪PHiTEC II。

    目前，英国HEL集团已经成为全球zui大的化工及制药安全仪器设备制造商及解决方案提供商，是低PHi值 (φ)绝热量热仪的创始者，并开发了世界上zuixian进的低PHi值绝热量热仪PHiTEC II，HEL集团的PHiTEC系列绝热量热仪在全球500多家制药，化工，军工等研究机构得到广泛使用，其中PHiTEC II系列凭借其精准可靠的压力跟踪功能，反应池功能多样性，外部反应釜及气体分析仪（等设备）的联用，使其成为研究化工过程安全，工艺放大和危险品评价的终级选择。

测温范围：-80°C～500°C（更高/更低温度可定制，超低温条件取决于所配套的制冷装置）
温度稳定性(恒温模式时)：±0.001°C
温度准确度(直接样品温度测试模式时)：±0.001°C
温度跟踪：标准50°C/min；低φ 200°C/min；400°C/min
测压范围：0~300Bar（可选1000Bar或定制更大范围的压力传感器）
压力跟踪：真空～200 Bar/min，选配700 Bar/min（PHiTEC II）
压力精度：0.01Bar；压力准确度：±0.05%
放热检测灵敏度：0.002°C ~ 0.2°C/min
zui大样品量：（根据反应池体积）0.5 ~ 80g
搅拌模式：标准电磁搅拌0~500rpm，可选机械搅拌（准确模拟实际工况）
操作模式：HWS（加热-等待-扫描），RAMP（快速扫描），ISO（恒温）
低φ样品池 ：可达1.05 (建议用于PHiTEC II)，并且仍适用于zui大压力条件
（普通ARC的低φ样品池仅接近φ 1.1，且操作压力为标准样品池的1/3~1/2）
外形规格：30cm x 37cm x 50cm
电源要求：单相交流220V，13A

    自动压力跟踪*：PHiTEC II具有独创的温度-压力双重快速跟踪功能，传统的ARC技术仅有单一的zui大速率20°C/min的温度跟踪功能，PHiTEC II不仅温度跟踪速率可以达200°C/min，同时具有200Bar/min（可选700Bar/min）的压力跟踪能力，使其不仅可用于高能材料反应动力学研究，还可用于大型储运及生产等工艺体系的泄爆口（VENT SIZING）设计等更广泛的领域。 
    PHiTECH II可以使用低φ值（≤1.05）样品池，zui大容量可达110毫升，绝热特性及检测数据更加接近大型反应体系的真实工况，并且全自动压力跟踪功能可以确保内外压平衡，从而有效地保证了操作安全性。
普通ARC不具备压力跟踪功能，如使用低φ样品池（极限值1.1），zui大操作压力必须降低，但因反应规模比标准样品池大很多，安全性将更加令人担忧。 


    功能兼容性：PHiTEC II向下兼容PHiTEC I 、TSu（快速筛选量热仪），可完成从材料筛选、精确比例放大、反应器及储运条件设计等一系列工作中必要的安全评估工作。
*注：PHiTEC I/II可测试18650等标准规格电池，如须测试大体积的动力电池组等样品，可选用HEL公司的BTC专用大体积电池绝热量热仪。

其余功能请参考PHITEC I

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途