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显微分光膜厚仪

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品牌名称
卓立汉光
厂家区域
北京
发货期限:
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产品详情
产地:
北京
型号:
OPTM 系列

OPTM 系列显微分光膜厚仪
头部集成了薄膜厚度测量所需功能

通过显微光谱法测量高精度绝对反射率(多层膜厚度,光学常数)

1点1秒高速测量

显微分光下广范围的光学系统(紫外至近红外)

区域传感器的安全机制

易于分析向导,初学者也能够进行光学常数分析

独立测量头对应各种inline客制化需求

支持各种自定义
 

OPTM 系列显微分光膜厚仪选型表
 

OPTM-A1 OPTM-A2 OPTM-A3
波長范围 230 ~ 800 nm 360 ~ 1100 nm 900 ~ 1600 nm
膜厚范围 1nm ~ 35μm 7nm ~ 49μm 16nm ~ 92μm
测定时间 1秒 / 1点
光斑大小 10μm (*小约5μm)
感光元件 CCD InGaAs
光源規格 氘灯+卤素灯   卤素灯
电源規格 AC100V±10V 750VA(自动样品台规格)
尺寸 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自动样品台规格之主体部分)
重量 约 55kg(自动样品台规格之主体部分)

 

测量项目:

绝对反射率测量

多层膜解析

光学常数分析(n:折射率,k:消光系数)

 

测量示例:SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚测量

半导体晶体管通过控制电流的导通状态来发送信号,但是为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流流过任意路径,有必要隔离晶体管,埋入绝缘膜。 SiO 2(二氧化硅)或SiN(氮化硅)可用于绝缘膜。 SiO 2用作绝缘膜,而SiN用作具有比SiO 2更高的介电常数的绝缘膜,或是作为通过CMP去除SiO 2的不必要的阻挡层。之后SiN也被去除。 为了绝缘膜的性能和精确的工艺控制,有必要测量这些膜厚度。

 


显微分光膜厚仪由北京卓立汉光仪器有限公司 为您提供,如您想了解更多关于显微分光膜厚仪报价、参数等信息 ,欢迎来电或留言咨询。

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