- 产地:
- 深圳
- 型号:
- WD4000
您是否在半导体芯片制造、外延生长、封装减薄等核心工艺中,面临着“精度不足误判工艺、接触测量损工件、多层膜量测失真"等导致的高价值芯片报废、良率下滑难题?WD4000无损测量芯片晶圆薄膜厚度设备,以“无损"核心优势,精准芯片晶圆薄膜厚度,为半导体企业提供“精准、安全、高效"的全流程解决方案。
一、无损技术带来的四大核心突破
1. 无损测量,杜绝工件损伤:相较于传统接触式探针测量,光学非接触设计避免划伤精密晶圆表面、破坏脆弱薄膜层,从源头减少高价值芯片报废;
2. 精度拉满,数据零偏差:亚纳米级分辨率+七点相移算法,可精准识别最小纳米级薄膜厚度波动,避免因量测误差导致的工艺误判;
3. 全场景适配,无测量盲区:红外传感器+光谱共焦双技术协同,轻松破解多层膜、低反射率、粗糙表面晶圆的量测难题,覆盖半导体前中后道全工艺;
4. 高效集成,降本提效:WD4000无损测量芯片晶圆薄膜厚度设备多参数一体测量无需设备切换,自动上下料+500mm/s高速移动,大幅缩短检测周期,适配批量生产场景。
二、直击您的核心诉求,解决您的实际生产难题

三、无损量测的实测数据

(注:本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,如需获取新产品技术信息可咨询客服获取。)
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无损测量芯片晶圆薄膜厚度设备由深圳市中图仪器股份有限公司 为您提供,如您想了解更多关于无损测量芯片晶圆薄膜厚度设备报价、参数等信息 ,欢迎来电或留言咨询。




















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