帕克 NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统

产地：

韩国

型号：

Park NX-Hybrid WLI

全自动工业 WLI-AFM 系统

Park NX Hybrid WLI是有史以来第一款具有内置WLI轮廓仪的AFM，用于半导体和相关制造质量保证。例如半导体前端、后端到高级封装的过程控制，以及研发计量。它适用于那些需要在大面积上进行高吞吐量测量的设备，这些设备可以缩小到具有亚纳米分辨率和超高精度的纳米级区域。

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半导体计量的两种最佳互补技术。

WLI: 白光干涉测量是一种光学技术，它可以对非常宽的区域进行成像，速度非常快，满足高吞吐量测量。

AFM: 原子力显微镜是一种扫描探针技术，即使对透明材料也能提供最精确的纳米级分辨率测量。

	扫描区域	速度	横向分辨率	垂直分辨率	精度
WLI	大	快	低	高	低
AFM	小	慢	高	非常高	高

WLI和AFM在视野,分辨率和速度方面完美结合。

WLI应用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度

先进的化学机械抛光计量和监测

先进封装

全掩模的热点和缺陷检测

晶圆级计量

AFM应用需要更大的区域和更高的吞吐量

In-line 晶圆计量

长行程CMP轮廓表征

亚埃级表面粗糙度控制

晶圆检验与分析

 

NX-Hybrid WLI 功能Park WLI系统

Park WLI支持WLI和PSI模式（PSI模式由电动过滤器变换器 支持）

可用物镜放大倍数：2.5X 、10X、20X、50X、100X

两个物镜可由电动线性换镜器自动更换

WLI光学干涉测量

扫描 Mirau 物镜高度时，由干涉引起的光强变化可以计算每个像素处的样品表面高度

白光干涉测量 (WLI) 和相移干涉测量 (PSI) 是两种常用的表面表征技术

NX-Hybrid WLI 应用热点检测和审查热点快速调查和热点缺陷自动审查

可以通过比较参考和目标样品区域的图像来检测图案结构的热点

WLI 的高速“热点检测”可以快速定位缺陷位置，以进行高分辨率 AFM 审查

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