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LHT系列实验室石墨炉设计紧凑，是研发环境的理想工具。其圆柱形加热室集成水冷系统，采用石墨加热元件，最高温度达3000°C，支持真空和气氛环境下操作。系统具备高真空性能（可达5×10⁻⁶ mbar）和超压处理能力（最高100 bar），升温速率快，温度均匀性优异。配备移动脚轮和西门子PLC控制系统，操作简便，适用于大学及工业实验室的小样品处理。
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