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首页 > 供应产品 > 电子束蒸发镀膜机 (E-beam Evaporator)
电子束蒸发镀膜机 (E-beam Evaporator)
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产品: 浏览次数:1276电子束蒸发镀膜机 (E-beam Evaporator) 
型号: VS4, SEE-5S
产地: 英国
单价: 500000.00元/
zui小起订量:
供货总量:
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
有效期至: 长期有效
zui后更新: 2020-01-19 23:46
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详细信息

仪器简介:
电子束蒸发系统是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术;它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的金属,使其熔融后蒸发到所需基片上形成金属膜。可蒸发很多难熔金属或者蒸汽压低的金属材料,包括Ta, W, Mo, Rh, C, B, Pt, Al2O3, ZnO, Pr2O3

技术参数:
1. 蒸发室尺寸:24"×24"×21";

2. 极限真空度:≤5×10-7托;

3. 电子枪功率: 6千瓦可调;

4. 蒸发速率:可由晶体振荡器监控厚度和沉积速率;

5. 可蒸发金属膜Al,Ti,Pt,Au,Ag,Cu,NiCr等;

6. 膜厚度误差 ≤±5%,膜厚均匀性误差 ≤±5% 。



主要特点:
1. 安全简易的软件操作系统,四个不同级别的用户权限(操作、工艺、工程师以及维修保养)较大限度的保证系统的安全。


2. 双腔设计:蒸发材料和晶片分别处于不同的腔体中,使得源材料的更换和晶片的装载过程中zui大限度的保证腔体的洁净程度和缩短抽真空的时间。

3. 较大的前腔门使得在维修和保养的过程中极为方便。

4. 采用卫星旋转式晶片装载夹具,可以根据不同的产量的需要升级晶片直径或增加夹具的数量。卫星旋转式夹具保证了沉积薄膜的均匀性。


 参考用户:
 深圳大学;兰州理工大学;广东工业大学;厦门大学;华中科技大学;重庆石墨烯研究院;

注:该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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