Advance Riko-经济型RTP快速退火炉 RTP-6

型号：

RTP-6

产地：

日本

RTP-6快速退火炉配备了抛物面反射器和红外灯加热系统，可以均匀加热尺寸达6英寸的晶圆。其具备高速热处理的能力，可用于热处理工艺的研究和开发。 在个别半导体工艺和化合物半导体的过程退火中可以形成硅化物。

应用:

用于半导体的各种晶片的高速热处理。

特性：

1.对尺寸达6英寸的晶圆进行高速热处理

2.采用水冷冷壁结构，无重金属污染，可高速冷却

3.真空更换后可提供各种气流；

4.通过您的电脑，您可以轻松输入温度程序和外部信号。 在加热过程中获取的温度数据可以显示在PC上。

5. 9区功率控制可实现良好的温度分布和可重复性。

6.石英室保护罩可用于防止室内污染（可选）。

型号	RTP-6
温度范围	RT to 1000 °C
样品尺寸	4-6英寸圆晶
气氛	各种气氛，气流，空气氛围，真空；
加热方式	上层抛物面红外加热系统或下层抛物面加热系统
zui大升温速率	80℃/s
均热精度	Δt＝10℃ (晶圆在800℃氮气流下)
热电偶	JIS-K型热电偶, 高温计（可选）
外形尺寸	约 W600 x D1000   x H1700 (mm) 不包含突出部分
重量	约300kg
供电要求	三相电，AC 200V，30kVA
水冷要求	压力≥0.3Mpa ，流速≥15L/min
真空排气口	KF-25
通气口	进气口:1/4 英寸套管接头
热空气排气口	约φ50mm孔







注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途